Marka Halier wprowadziła na rynek nowe produkty. To trzy kolekcje, których zadaniem jest specjalistyczna pielęgnacja włosów o szczególnych potrzebach. Linia Re:scue przeznaczona jest do odbudowy włosów suchych i zniszczonych. Re:hab stworzono z myślą o włosach mających tendencję do przetłuszczania się. Linia Re:flect pielęgnuje i odżywia włosy poddane zabiegom koloryzacji.
Każda nowa kolekcja składa się z szamponu i odżywki - starannie opracowanych według potrzeb najbardziej wymagających klientów. Marka Halier od zawsze stawia na zdrową i bezpieczną pielęgnację. Kosmetyki z nowych linii są wolne od SLS, SLES i SCS, nie zawierają siarczanów, silikonów, parabenów oraz nie wywołują podrażnień.
Kolekcja Re:scue przeznaczona jest dla włosów suchych i zniszczonych. Szampon i odżywka z formułą Super-Hydration™ nawilżają, przywracają sprężystość, ułatwiają rozczesywanie i poprawiają ogólną kondycję włosów. Wyciąg z porostu islandzkiego ma działanie zmiękczające. Ekstrakt z owoców maliny nordyckiej przeciwdziała wolnym rodnikom, wspomaga procesy regeneracyjne komórek oraz nasyca skórę mikroelementami.
Kolekcja Re:hab to kosmetyki normalizujące do włosów przetłuszczających się z formułą Pure Balance™. Produkty uwalniają kosmyki od nadmiernej ilości sebum oraz dbają o optymalne pH skóry głowy. Wyciąg z torfu arktycznego oczyszcza i wzmacnia, przyspiesza proces regeneracji komórek i sprawia, że włosy pozostają dłużej sprężyste i świeże. Naturalny olej arganowy zawarty w odżywce regeneruje włosy i działa przeciwstarzeniowo. Włosy stają się lśniące, jedwabiście gładkie, przestają się puszyć, rozdwajać i łamać.
Kolekcja Re:flect z formułą Active Shine & Repair™ dedykowana jest włosom farbowanym. Szampon i odżywka odbudowują strukturę włosów zniszczonych podczas koloryzacji. Zawarte w unikalnej formule substancje aktywne zapobiegają utracie wody z naskórka, nadają pasmom blask, chronią je przed elektryzowaniem i ułatwiają rozczesywanie. Olej z nasion rokitnika nawilża, wygładza i uelastycznia włosy, podkreślając ich lśniący kolor.